2020-07-14
世创科技独有的离子束辅助沉积技术
离子束辅助沉积技术（世创离子源系统），源自于中俄涂层科技合作的成果。该系统的基本原理是在工艺进行气体离子刻蚀清洗阶段，采用电弧离子镀膜系统中相对的一对沉积用阴极电弧靶通过控制电路对弧电源的切换组成一对串联的阴极靶与阳极靶，阳极靶前配有挡板装置，只允许气体离子通过，形成一个离子源系统。该系统根据涂层机真空室大小及电弧靶的多少，可设置1个或多个离子源系统，并可高低按需分布，达到均匀覆盖有效工作区域的要求。离子源气体离子刻蚀强度可通过控制弧电源的输入功率进行调节。在进入沉积工艺阶段时各靶又切换回沉积用阴极靶进行正常的沉积阴极靶使用。沉积阴极靶和离子源系统靶的切换是在工艺流程设定中由电脑程序自动切换，全自动运行。
目前该系统已申报国家专利《一种多功能等离子体增强涂层系统》专利号201220594109.9。对西安430厂用户使用的世创公司SC1300航空叶片涂层机生产的调研反馈得知，该结构离子源使工件表面刻蚀清洗效果明显提高，沉积后的涂层结合力更好。
| 世创离子源系统 | 常规矩形离子源系统 |
| 利用原有电弧镀的阴极靶就可以实现，结构简单。 | 需专门配置一套离子源和电源。 |
离子源可根据工作区域的需要在设备多个方向布置每 对阴极阳极靶，使工作时气体等离子体可均匀的穿透 整个工作区域，同时气体离化率比常规气体离子源高。 进入沉积阶段时各靶又切换回沉积用阴极靶。 | 只能在设备高度方向的一侧布置，影响沉积用阴极靶 的均匀布置。气体等离子体只能从一个方向发出，对 工件的刻蚀的均匀性差。气体离化率低。 |
不须占用真空室空间安装常规气体离子源，可最大化利 用真空室安装电弧靶，并提高沉积速率。 | 需单独一块位置安装，只能减少该位置沉积用阴极靶， 对沉积速率和均匀性有影响 |
利用弧电源座位离子源电源，无需另配离子源电源，操 作简单，可靠性高。 | 需单独配备离子源及电源。 |
除进行离子刻蚀清洗功能以外，还可实现离子氮化、等 离子增强沉积等多种特色工艺。 | 只能用作离子刻蚀清洗功能，功能单一。 |
配备多组离子源，使气体离子刻蚀清洗工艺段故障率大 大降低。 | 由于只配备一个离子源，一旦出现故障，使整个气体离 子刻蚀清洗工艺段停止。 |
与常规涂层相比，采用世创离子源涂层的优势
世创涂层设备靶材利用率超过80%
在真空等离子电弧镀生产过程中，靶材是一种费用较大的耗材，特别是使用一些贵重材料制成的靶材，价格昂贵，如果在使用过程中靶材的利用率不高的话，浪费是非常惊人的，同时增加了产品的生产成本。
传统技术的圆饼形电弧靶存在问题是靶材工作面的边缘弧斑很少烧蚀到，变成靶面烧蚀呈锅底凹状，靶材的利用率很低；目前多数设备的靶材利用率不超过50%。同时要经常人工观察，手工调整，不利于涂层设备长时间的连续工作。
世创科技的真空等离子镀膜机，用电磁起弧代替传统的起弧方式，在靶表面形成等离子弧斑在靶的整个表面进行均匀灼烧，直到起弧装置的触点为止，而新型电磁多弧靶的起弧触点位置接近靶的底部，从而保证了靶材的使用率大于80%以上。
使用前后靶材尺寸变化
“世创镀膜机不仅仅是一台设备，它是我们对完美的追求！“
世创科技相继在2015年和2018年中标西安某一公司和无锡某一公司以来，2019年11月再次与陕西某一公司签订了耐热涂层机设备的供货合同。这充分体现了世创的涂层机逐步在航空发动机领域打开了局面。目前世创的科研技术人员正在此领域深耕细作，使该设备在我国航空发动机行业继续发扬光大。
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